Описание
Данная установка представляет собой универсальную систему плазменной очистки, предназначенную для удаления загрязнений, оксидов и др. составов перед операцией разварки выводов проволокой, во «flip chip»-технологии и т.д.
Установка V15-G оснащена массовым расходомером газов, PLC-контроллером, что обеспечивает возможность программирования и хранения режимов работы, а так же безопасность процесса очистки.
Конструкция установки позволяет избежать недостатков процесса плазменной очистки связанных с «эффектом экранирования».
Отличительные особенности:
- Сдвижная дверь
- PLC-контролер
- Сверхточное совмещение по верхней стороне
- Отображение важных параметров всех процессов
- Возможность удалённого контроля
- USB–интерфейс
Области применения:
- Изготовление МЭМС и изделий сверхмалого размера
- Удаление полимеров
- Удаление жертвенных органических слоёв
- Обработка биоактивных компаундов
Опции:
- Вакуумная помпа;
- Озоновая ловушка
- До трех газовых линий
- Экранированная камера
- Клапан управления давлением
- И другие
Технические характеристики
- Размеры рабочей камеры: 250 x 250 x 250мм.
- Частота генератора: 2,45 ГГц, 100 — 600 Вт
- Подача газа: Одна газовая магистраль с массовым расходомером с магнитным клапаном
- Эл. питание: 380 В, 50 Гц, 1,5 кВт
- Габаритные размеры: 670 x 900 x 1,850 мм